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供应激光刻膜机
发布时间:2011年05月25日
有 效 期:2011年11月24日
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详细说明
SEF-G5:激光刻膜机
产品特点:半导体端面泵浦光纤耦合全固态激光器;膜面朝上非接触式工作台;直线电机驱动;四路同步输出;自动识别跟踪定位;自动进出料;在线监测;静态显示
技术参数:
型号规格:SEF-G5
有效加工幅面:1.1m×1.4m(或635mm×1245mm )
*大运行速度:2000mm/s
重复定位精度:±10μm
刻线直线度:±10μm / 1000 mm
典型刻膜线宽:30~60μm
三线外沿总宽度:300~500μm
选项和配件:
高标配,可根据需要移除不需要的部件。
应用和市场:非晶硅薄膜太阳电池的透明导电膜(SnO2、AZO、ITO)、非晶硅膜系(a-Si、μc-Si)、背电极膜(ZnO、Al)等的激光刻膜(刻线、切割),其它薄膜电池的膜层刻膜(金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜)。
武汉三工光电设备制造有限公司
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中国湖北武汉市湖北省武汉市东湖高心开发区武汉大学科技园
邮 编:
430223
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http://sunic50.qy6.com.cn
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