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供应绝缘刻线机
发布时间:2011年05月25日
有 效 期:2011年11月24日
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SEF-J:绝缘刻线机
产品特点:龙门式结构,两维分离(或两维一体);半导体端面泵浦光纤耦合全固态激光器;伺服电机(或直线电机)驱动;两路或四路同步输出;自动跟踪定位;自动上下料(选配)
技术参数:
型号规格:SEF-J
有效加工幅面:1.1×1.4m(或635mm×1245mm)
*大刻线速度:800~1000mm/s
重复定位精度:±10μm
刻线直线度:±10μm / 1000 mm
刻线宽度:50~80μm
应用和市场:薄膜太阳电池的绝缘隔离线的刻划加工,将所有膜层一次性刻划干净,重新隔离形成独立绝缘的小块电池阵列。
武汉三工光电设备制造有限公司
吴鹏
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中国湖北武汉市湖北省武汉市东湖高心开发区武汉大学科技园
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